主要成分：
1.5% 二甲基甲氧基苯并二氢吡喃醇
可有效淬灭单线态氧ROS，清除活性氮RNS，抑制蛋白质羰基化RCS，高活性物含量，更稳定，经皮停留量提高。
0.5-3%
配方低温阶段（37℃及以下）加入后搅拌均匀。
建议应用于各类化妆水、精华液、乳液、膏霜、面膜中。
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